九、蝕刻

蝕刻：通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

工藝流程：

曝光法：工程根據(jù)圖形開出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

網(wǎng)印法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK

技術(shù)特點(diǎn):

優(yōu)點(diǎn)：

1、可進(jìn)行金屬表面細(xì)微加工；

2、賦予金屬表面特殊的效果；

缺點(diǎn)：蝕刻時(shí)采用的腐蝕液體（酸、堿等）大多對(duì)環(huán)境具有危害。

 表面處理

塑料

一、模內(nèi)裝飾技術(shù)（IMD）

模內(nèi)裝飾技術(shù)（In-Mold Decoration-IMD）:是將已印刷好圖案的膜片放入金屬模具內(nèi)，將成形用的樹脂注入金屬模內(nèi)與膜片接合,使印刷有圖案的膜片與樹脂形成一體而固化成成品的一種成形方法。

IMD包含IML（無(wú)拉伸、曲面小）、IMF（高拉伸產(chǎn)品、3D）、IMR(表面薄膜去掉，只留下油墨在表面)。

目前業(yè)內(nèi)把IML和IMF統(tǒng)稱IML。

技術(shù)特點(diǎn)：

1、精美的裝飾圖文、標(biāo)識(shí)內(nèi)藏，不受摩擦或化學(xué)腐蝕而消失；

2、圖文、標(biāo)識(shí)及顏色設(shè)計(jì)可隨時(shí)改變，而無(wú)需更換模具；

3、三維立體形狀產(chǎn)品的，印刷精度準(zhǔn)確，誤差±0.05mm；

4、能提供圖文、標(biāo)識(shí)背透光性及高透光性的視窗效果；

5、功能按鍵凸泡均勻、手感好，壽命可達(dá)100萬(wàn)次以上；

6、三維變化，可增加設(shè)計(jì)者對(duì)產(chǎn)品設(shè)計(jì)的自由度；

7、復(fù)合成型加工達(dá)到無(wú)縫效果。

二、噴涂( Painting )

噴涂：利用噴槍等噴射工具把涂料霧化后，噴射在被涂工件上的涂裝方法。

工藝流程：注塑→底漆→烘干→面漆→烘干

技術(shù)特點(diǎn)：

優(yōu)點(diǎn)：

1、顏色豐富；

2、液體環(huán)境中加工，可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的表面處理；

3、工藝成熟、可量產(chǎn)；

4、有獨(dú)特的透明度，光澤度高。

缺點(diǎn)：

1、成本過(guò)高，低成本定位產(chǎn)品不適用于此工藝；

2、工藝相對(duì)復(fù)雜，良率較低。

三、NCVM不導(dǎo)電真空鍍

NCVM:又稱不連續(xù)鍍膜技術(shù)或不導(dǎo)電電鍍技術(shù)，是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各不連續(xù)之特性，得到**終外觀既有金屬質(zhì)感且不影響到無(wú)線通訊傳輸之效果。。

工藝流程:

技術(shù)特點(diǎn):

1、所制產(chǎn)品不導(dǎo)電，可以通過(guò)高壓電表幾萬(wàn)伏特的高壓測(cè)試，不導(dǎo)通或不被擊穿

2、所制產(chǎn)品表面具有金屬質(zhì)感的同時(shí)可實(shí)現(xiàn)半透明化控制。

四、電鍍

電鍍：使塑料以較高成品率及較低成本獲得金屬效果表面。與PVD相似，PVD是物理原理，電鍍是化學(xué)鍍，主要分為真空電鍍和水電鍍。

工藝流程：

水電鍍工藝流程

技術(shù)特點(diǎn)：

優(yōu)點(diǎn)：

1、重量減輕；

2、全面節(jié)省成本；

3、較少的加工工序；

4、仿真金屬零件。

缺點(diǎn)：

1、包括金屬插件在成型過(guò)程中不能變更；

2、塑模制造大于200平方英寸的零件比拉模之鑄造困難的多；

3、電鍍塑料用于某類家庭用具時(shí)存在著火的危險(xiǎn)。